日本FUJI富士氢气分析仪气体检测器ZAF4K406-LYAAY-YEAYY青岛平山郭-158-54210565
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水素ガスを使用する研究設備
工業炉の還元雰囲気監視
半導体装置のH2ガス濃度測定
水素発生装置のH2ガス濃度測定
焼成炉のH2ガス濃度測定
ガス発生プラントのAr、He、CH4ガス濃度測定
超電導装置のHeガス濃度測定
空気分離プラントのArガス濃度測定
測定方式 | 熱伝導式 |
測定成分 | He、Ar、H2、CH4、CO2 |
測定範囲 | H2 : 0~3 ‥‥ 100%,100~90,100~80% He : 0~5 ‥‥ 100%,100~90,100~80% Ar : 0~10 ‥‥ 100%,100~90,100~80% CH4 : 0~20 ‥‥ 100%,100~80% |
表示器 | バックライト付LCD |
測定値表示 | 最大4桁または小数点2桁付 |
電源電圧、消費電力 | AC100~240V 50/60Hz、約50VA |
取付方法 | パネル埋込式 |
外形寸法(H×W×D) | 240×192×213mm |
質量 | 約5kg |
繰返し性 | ±1%FS |
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